干式螺杆真空泵在电子半导体行业的具体应用
1. **薄膜沉积工艺**
- 在物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）过程中，需要高真空环境来确保薄膜的质量和均匀性。干式螺杆真空泵能够提供稳定的低真空度，例如在制备半导体芯片的金属薄膜（如铝、铜等）或绝缘薄膜（如二氧化硅、氮化硅等）时，它可以有效排除反应室内的空气和杂质气体。
- 干式螺杆真空泵的抽气速度快，能够迅速将反应室内的气体抽出，使薄膜沉积过程在短时间内达到所需的真空条件，从而提高生产效率。
2. **光刻工艺**
- 光刻是半导体制造中的关键工序，需要在高洁净度的真空环境下进行。
干式螺杆真空泵可以维持光刻设备内部的真空状态，防止灰尘、水汽等污染物对光刻胶和光刻图案的影响。
- 由于干式螺杆真空泵无油运行，避免了油蒸汽反流对光刻工艺的污染，从而提高了光刻的精度和分辨率，有助于制造更小尺寸的芯片电路结构。
